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KMLabs量子顯微鏡QM

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱天津瑞利光電科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)QM
  • 所  在  地天津市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2025/6/30 13:09:52
  • 訪問次數(shù)98
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天津瑞利光電科技有限公司成立于2016年,公司專注于引進(jìn)國(guó)外前沿光電技術(shù)及*光電產(chǎn)品,為國(guó)內(nèi)科學(xué)研究與工業(yè)應(yīng)用提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)。目前,瑞利光電已與來自歐洲、美國(guó)、以色列、日本等地的多家光電產(chǎn)品生產(chǎn)廠家建立了密切的合作關(guān)系,產(chǎn)品包括各類激光器、激光加工機(jī)器、光學(xué)檢測(cè)設(shè)備、光學(xué)測(cè)量與分析儀器、精密定位及光學(xué)平臺(tái)、光學(xué)元件等。我們擁有一支成熟的專業(yè)化團(tuán)隊(duì),相關(guān)人員知識(shí)經(jīng)驗(yàn)豐富,近年來,得益于人才隊(duì)伍建設(shè)和科學(xué)管理實(shí)踐,我們的技術(shù)服務(wù)水平和業(yè)務(wù)拓展能力日益精進(jìn),與多個(gè)高校和科研機(jī)構(gòu)的合作伙伴關(guān)系不斷深化,公司規(guī)模和業(yè)務(wù)范圍持續(xù)擴(kuò)大,公司競(jìng)爭(zhēng)力顯著增強(qiáng),在太陽能、半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、材料加工、光通訊、國(guó)防工業(yè)、科學(xué)研究等各類*制造與科研領(lǐng)域創(chuàng)造了大量的業(yè)績(jī),為客戶輸送了眾多高技術(shù)含量、高質(zhì)量、高精度、高可靠性、高穩(wěn)定性的產(chǎn)品,同時(shí)提供了安裝、調(diào)試、培訓(xùn)、方案研究、集成開發(fā)等綜合技術(shù)服務(wù),因此,瑞利也得到了來自全國(guó)客戶的廣泛贊譽(yù)和認(rèn)可。光電科技領(lǐng)域的*技術(shù)和產(chǎn)品對(duì)推動(dòng)我國(guó)工業(yè)發(fā)展和提升科研實(shí)力起到了至關(guān)重要的作用。瑞利光電始終以“引進(jìn)高、精、尖技術(shù)和產(chǎn)品,助力中國(guó)實(shí)現(xiàn)強(qiáng)國(guó)夢(mèng)”為使命。我們奉行信義為根,嚴(yán)謹(jǐn)為本,精益求精,行思行遠(yuǎn)的經(jīng)營(yíng)宗旨,力求通過自身的創(chuàng)新發(fā)展為客戶持續(xù)創(chuàng)造價(jià)值,為產(chǎn)業(yè)升級(jí),科技強(qiáng)國(guó)貢獻(xiàn)力量。
產(chǎn)品介紹無損成像將時(shí)間分辨研究帶入了納米長(zhǎng)度尺度的地形表面成像能力(生物
KMLabs量子顯微鏡QM 產(chǎn)品信息
產(chǎn)品介紹

無損成像將時(shí)間分辨研究帶入了納米長(zhǎng)度尺度

的地形表面成像能力(生物,半導(dǎo)體,量子)

一根或多根帶有根據(jù)您的要求配置的終端站的光束線

自組裝材料中納米級(jí)有序衍射

用于評(píng)估機(jī)械和薄膜特性的結(jié)構(gòu)泵探頭,以了解彈性響應(yīng),熱傳遞和聲子模式

磁性系統(tǒng)的高分辨率,革命性的測(cè)量對(duì)不同的磁性層高度敏感

KMLabs QM 量子顯微鏡的光子成像解決方案是一個(gè)集成的商業(yè)化平臺(tái),可實(shí)現(xiàn)EUV范圍內(nèi)的超快速光譜和納米級(jí)的高對(duì)比度,近地表到地下成像。它可以對(duì)成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行基于實(shí)驗(yàn)室的2D高對(duì)比度成像,研究圖案化薄膜的機(jī)械性能,深入了解材料性能,以及自旋電子,ALD,2D,低密度輕質(zhì),能源,空間和光伏材料的功能表征。

通過將飛秒激光器的時(shí)間敏感性與EUV顯微鏡和衍射的空間分辨率相結(jié)合,QM使得一系列技術(shù)可針對(duì)研究和工業(yè)中的重要挑戰(zhàn)進(jìn)行調(diào)整。例如,對(duì)于電池,鋰邊緣附近的EUV吸收提供了微觀和光譜上豐富的區(qū)域,以了解鋰鍵合。對(duì)于半導(dǎo)體,QM提供了的對(duì)鍵合敏感的掩埋和表面納米形貌的關(guān)鍵細(xì)節(jié)。QM 量子顯微鏡可配置,包括激光源(EUV和/或VUV),放大器,根據(jù)用戶實(shí)驗(yàn)量身定制的光束線以及可有效覆蓋納米/量子材料的顯微鏡/光譜學(xué)領(lǐng)域的成像或其他分析工作站。

產(chǎn)品參數(shù)

集成的高性能超快EUV激光源

高分辨率干涉測(cè)量表面和亞表面成像

x/y空間分辨率小于20 nm

具有可配置終端站的多用途束線

泵浦探頭(XUV泵浦/ IR探頭)設(shè)計(jì)

可擴(kuò)展至VUV(60-150 nm或8.3至20.7 eV)

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