半導體所牽頭制定的《石墨烯薄膜層數(shù)測量：拉曼光譜法》國際標準正式發(fā)布

2025-10-20 11:49:57中國科學院半導體研究所閱讀量：28401      我要評論

　　近日，國際電工委員會納米電工產(chǎn)品與系統(tǒng)技術(shù)委員會(IEC/TC 113)正式發(fā)布國際標準IEC TS 62607-6-28:2025 Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-28: Graphene-related products - Number of layers for graphene films on a substrate: Raman spectroscopy(納米制造 - 關(guān)鍵控制特性 - 第6-28部分：石墨烯相關(guān)產(chǎn)品 - 基底上石墨烯薄膜的層數(shù)：拉曼光譜法)。該標準由中國科學院半導體研究所譚平恒研究團隊牽頭提案并組織編制，國家納米科學中心、深圳市標準技術(shù)研究院以及來自德國、日本、韓國的專家參與制定工作。

　　石墨烯薄膜的層數(shù)是石墨烯相關(guān)材料最核心、最基礎(chǔ)的物理性能參數(shù)之一，其表征方法的構(gòu)建與標準的制定是石墨烯材料研發(fā)、精準制備和應(yīng)用的重要基石。該標準基于譚平恒研究團隊原創(chuàng)性的前沿科學研究成果和具有自主知識產(chǎn)權(quán)的專利技術(shù)，在國際標準中建立單獨使用拉曼光譜法檢測石墨烯薄膜層數(shù)的技術(shù)規(guī)則和檢測標準。該標準提供了兩種獨立的標準化方法，分別是基于石墨烯薄膜拉曼光譜中的2D模線型(方法A，適用5層以內(nèi)AB堆垛的石墨烯薄膜)和石墨烯薄膜覆蓋下SiO2/Si襯底的硅拉曼模峰高(方法B，適用10層以內(nèi)AB和ABC堆垛的石墨烯薄膜)與層數(shù)之間的對應(yīng)關(guān)系，對石墨烯薄膜的層數(shù)進行精準判定和交叉驗證，進一步提高了復雜樣品的檢測可靠性。相比于現(xiàn)行國際標準中需使用多種檢測手段結(jié)合的方法，該標準僅使用常規(guī)拉曼光譜儀即可完成，測量步驟簡單清晰、提高了檢測效率和可操作性。

　　同時，該標準突破了現(xiàn)行國際標準中僅適用于5層以內(nèi)石墨烯薄膜的局限性，將層數(shù)檢測范圍拓展到了10層，擴寬了應(yīng)用范圍，為石墨烯產(chǎn)品和相關(guān)科學研究提供了科學可靠的參考和技術(shù)指導，有助于提高石墨烯產(chǎn)品質(zhì)量，降低生產(chǎn)、檢驗和人工成本，易于推廣實施，規(guī)范市場秩序，引導產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展。

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