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氣相沉積實驗爐

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更新時間：2023-04-06 19:04:12瀏覽次數(shù)：721次

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上海鉅晶精密儀器制造有限公司

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產(chǎn)品簡介

氣相沉積技術是利用氣相中發(fā)生的物理、化學過程，在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層

詳細介紹

　　氣相沉積技術是利用氣相中發(fā)生的物理、化學過程，在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層。氣相沉積技術按照成膜機理，可分為化學氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。

　　1、化學氣相沉積（CVD）：將工件置于反應室中，抽真空并加熱至900~1100℃。如要涂覆TiC層，則將鈦以揮發(fā)性氯化物（如TiCl4）與氣體碳氫化合物（如CH4）一起通入反應室內，這時就會在工表面發(fā)生化學反應生成TiC，并沉積在工件表面形成6~8μm厚的覆蓋層。工件經(jīng)氣相沉積鍍覆后，再進行淬火，回火處理，表面硬度可達到2000~4000HV。

　　2、物理氣相沉積（PVD）：物理氣相沉積是通過蒸發(fā)，電離或濺射等過程，產(chǎn)生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種，目前應用較廣的是離子鍍。離子鍍是借助于惰性氣體輝光放電，使鍍料氣化蒸發(fā)離子化，離子經(jīng)電場加速，以較高能量轟擊工件表面，此時如通入CO2，N2等反應氣體，便可在工件表面獲得TiC,TiN覆蓋層，硬度高達2000HV。離子鍍的重要特點是沉積溫度只有500℃左右，且覆蓋層附著力強，適用于高速鋼工具，熱鍛模等。

　　氣相沉積實驗爐為沉積爐主體內有加熱室，水冷電極，測溫熱電偶，是處理工件的核心部分。

　　氣相沉積實驗爐產(chǎn)品優(yōu)勢以及特點：

　　氣相沉積實驗爐采用多溫區(qū)獨立控溫，溫度均勻性好；

　　氣相沉積實驗爐采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強；

　　氣相沉積實驗爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；

　　氣相沉積實驗爐對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。