詳細摘要： 1.晶圓烘箱烤箱應用單個EVG105晶圓烘箱晶片烤箱烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程
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岱美儀器技術服務（上海）有限公司
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詳細摘要： EVG光刻機EVG610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和200mm的晶圓
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詳細摘要： 特色：EVG6200NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米
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詳細摘要： 主要用途：用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米
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詳細摘要： 1.集成光刻系統(tǒng)光刻機Track系統(tǒng)通過集成的生產系統(tǒng)和結合掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理的高度自動化功能，*了EVG光刻機產品系列
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詳細摘要： 1.簡介LITHOSCALE無掩模光刻機系統(tǒng)是一個革命性的，高度靈活的無掩模光刻曝光平臺面向容納晶片可達300毫米的各種微細加工應用
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詳細摘要： 一、產品特色EVG620NT提供國家的本領域掩模對準技術在蕞小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸
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詳細摘要： EVG101_勻膠機_光刻膠涂膠機基本功能：研發(fā)和小規(guī)模生產中的單晶圓光刻膠加工,含旋涂和噴涂等工藝
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