儀器介紹
華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱。還能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度;不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求;安裝簡單,有冷卻系,可靠;提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)全新的溫度控制操作。
設(shè)備特點(diǎn)
1.高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
2.溫度高精度控制
通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。
3.清潔加熱
反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS
4.不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
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